Mathias Borella

1.2 Dispositif expérimental de dépôt

Mathias Borella — 2009-03-04T19:50:52Z

1. Le réacteur de dépôt Le réacteur de dépôt a été spécialement conçu par nos soins dans le cadre de la thèse et pour les besoins des travaux de thèse. Il est représenté de manière schématique sur la figure 1. Il est composé d'une enceinte cylindrique de 400 mm de diamètre en acier inoxydable (Z2 CND 17.12) munie d'une double paroi afin de permettre la thermalisation du réacteur. L'enceinte est pourvue de différents piquages pour toutes les fonctions standard : hublot de visualisation, bride de pompage, remise (...) - 1. Synthèse de films minces par polymérisation plasma

1.4 Objectifs

Mathias Borella — 2009-03-02T18:41:14Z

Les revêtements en couches minces à partir de précurseurs organosiliciés par PECVD sont aujourd'hui courants et présents dans un nombre croissant de domaines d'application [1] (optique, mécanique, protection chimique, nano-systèmes, microélectronique...) dans le cadre de la fonctionnalisation des surfaces en raison de leur très fort potentiel d'innovation et de leur caractère propre : innocuité environnementale et faible consommation de matière. Il existe un très large choix de précurseurs permettant (...) - 1. Synthèse de films minces par polymérisation plasma

Introduction

Mathias Borella — 2009-01-22T22:12:24Z

La polymérisation plasma est un procédé de préparation de matériaux, le plus souvent amorphes, sous forme de films minces et non une sorte de polymérisation. Ces matériaux obtenus par polymérisation plasma sont très différents des polymères conventionnels et constituent une nouvelle gamme de matériaux. La polymérisation plasma a été traitée comme une extension de la polymérisation en tant que concept et comme une nouvelle technologie de préparation de films minces d'un point de vue pratique. Il y a un fossé (...) - 1. Synthèse de films minces par polymérisation plasma

1.1 Approche phénoménologique

Mathias Borella — 2009-01-20T23:07:00Z

Le principe général de la technique est celui du dépôt chimique en phase vapeur, la CVD (Chemical Vapour Deposition) : un précurseur gazeux est dissocié en espèces réactives transportées jusqu'au substrat et adsorbées à sa surface. Ces espèces adsorbées peuvent réagir entre elles ou avec les espèces présentes dans la phase gazeuse, ce qui conduit à la formation d'un produit solide sous forme d'un film mince [1]. Les énergies de dissociation des espèces et d'activation des réactions sont obtenues par apport (...) - 1. Synthèse de films minces par polymérisation plasma