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Le principe général de la technique est celui du dépôt chimique en phase vapeur, la CVD (Chemical Vapour Deposition) : un précurseur gazeux est dissocié en espèces réactives transportées jusqu’au substrat et adsorbées à sa surface. Ces espèces adsorbées peuvent réagir entre elles ou avec les espèces présentes dans la phase gazeuse, ce qui conduit à la formation d’un produit solide sous forme d’un film mince [1]. Les énergies de dissociation des espèces et d’activation des réactions sont obtenues par apport (...)