La polymérisation plasma est un procédé de préparation de matériaux, le plus souvent amorphes, sous forme de films minces et non une sorte de polymérisation. Ces matériaux obtenus par polymérisation plasma sont très différents des polymères (...)

Le principe général de la technique est celui du dépôt chimique en phase vapeur, la CVD (Chemical Vapour Deposition) : un précurseur gazeux est dissocié en espèces réactives transportées jusqu’au substrat et adsorbées à sa surface. Ces espèces adsorbées (...)

1. Le réacteur de dépôt Le réacteur de dépôt a été spécialement conçu par nos soins dans le cadre de la thèse et pour les besoins des travaux de thèse. Il est représenté de manière schématique sur la figure 1. Il est composé d’une enceinte cylindrique de 400 (...)

Les revêtements en couches minces à partir de précurseurs organosiliciés par PECVD sont aujourd’hui courants et présents dans un nombre croissant de domaines d’application (optique, mécanique, protection chimique, nano-systèmes, microélectronique...) (...)