Mathias Borella

Introduction

Mise en ligne : samedi 31 janvier 2009, 20h11.

Dernière mise à jour : samedi 31 janvier 2009, 12h33.

L’ETUDE des cinétiques de croissance des films minces a permis de mettre en évidence l’influence relative et complémentaire des paramètres P_u et D_p pour les trois cas étudiés. Dans un procédé de polymérisation plasma, un changement de la cinétique de croissance peut signifier des modifications de la conformation du film mince. Il faut donc s’attendre à ce que l’élaboration de films minces à différentes valeurs de \mathcal{P}_{cp} conduise à l’obtention de matériaux aux propriétés différentes. Ce chapitre propose d’aborder la caractérisation des films minces élaborés en termes de propriétés physiques, de conformation, et d’environnement atomique. Ces caractéristiques vont permettre de mieux comprendre l’influence des mécanismes mis en jeu lors de la croissance de tels revêtements sur leur propriétés et de déterminer ainsi les facteurs prépondérants pour le contrôle et la maîtrise des propriétés fonctionnelles des matériaux en vue de leurs applications.

Le chapitre aborde dans un premier temps l’étude de certaines propriétés des films comme leur densité, leur composition et leur indice optique au regard des conditions d’élaboration. Une étude approfondie de la conformation des films minces est ensuite réalisée afin de tenter de comprendre l’origine de ces caractéristiques en termes de propriétés microscopiques et les éventuelles relations qui peuvent les lier.

Afin de déterminer certains des mécanismes à l’origine de la croissance du revêtement et de sa conformation pour un tel procédé, nous étudions le comportement de la molécule de précurseur au sein du plasma par spectroscopie d’absorption infrarouge. Sur la base des informations ainsi acquises, nous proposons des chemins réactionnels possibles conduisant à l’obtention de tels matériaux.

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